[北京]中国科学院微电子研究所

中国科学院微电子研究所招聘自动化控制工程师

工作地点:

北京市朝阳区北土城西路3号

公司网址:

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联系方式:

zhangyanqing@，010-82995758

简历的邮件命名：专业 学位 应聘部门 应聘岗位 应届/非应届
岗位名称：自动化控制工程师1人
专业要求：电子、电气、机电一体化、自动化等相关专业
学历要求：硕士及以上
岗位职责：负责半导体设备的自动化控制系统（包括硬件和软件）的设计与开发。
岗位要求：
1．具备独立设计、开发设备自动化的能力；
2．精通电路设计、调试、电路自动化控制、软件编程等方面的知识；
3  具备单片机或ARM方面的知识及经验并熟练应用；

4.  熟悉LabWindows/CVI或VC编程并熟练应用；

5．具有独立解决问题的能力，踏实肯干，学习能力强。

待遇：

聘用人员待遇按国家、中科院和本所相关政策制度执行，与本所同类同等级岗位人员同等待遇。 
单位介绍:
        中国科学院微电子研究所成立于1986年，前身是1958年成立的中国科学院109厂，是新中国成立后最早研制生产计算机晶体管的单位。经过近50年的发展，现已成为一所学科布局齐全、研究领域广泛的国立研究机构。设有2个从事前沿基础研究的重点实验室，11个从事应用技术研究的研究室，3个重大行业技术支撑的研究中心，涵盖了微电子学研究的各个主要领域。微电子所现有科研人员1200余人，含中国科学院院士2人。研究所设有博士学位和硕士学位授予点， 在读博士、硕士生500余人。
        微电子设备技术研究室是本所专业从事微电子装备技术研发和产业化的部门，拥有近30年的技术积累。主要研究方向包括新型集成电路制造与测试装备、新型太阳能电池制造技术和装备、高效率LED制造技术和装备、MEMS加工技术和装备及关键的射频功率源系统技术。近30年来，本部门承担并圆满完成了许多国家重点科技攻关的项目，取得了一批国内领先和多项具有国际先进水平的研究成果，先后获得国家科技进步二等奖、科学院科技进步奖二等奖、三等奖以及北京市科技进步一等奖和全国电子行业科技攻关成果奖等多项奖励，并拥有一批技术专利，同时在科研成果的应用开发与转化方面也进行了卓有成效的工作，取得了可观的经济效益。
主要产品包括：
        多功能磁增强反应离子刻蚀机 ( RIE / MERIE )：可用于多种材料的刻蚀，磁增强有效提高其刻蚀均匀性。可扩展为大尺寸刻蚀系统。
        高密度等离子体刻蚀机：用于12英寸及以下尺寸的硅的30nm以上图形刻蚀转移，深硅刻蚀及其他多种材料的刻蚀图形转移。
        等离子体增强化学气相淀积 (PECVD)：主要用于生长SiNx、SiO2、多晶硅、非晶硅、耐腐蚀介质层等材料。
        磁控溅射台(SP-08A)：可实现多重薄膜材料的溅射生长，还可实现多靶共溅射、多片溅射功能，均匀性优异。
        射频电源及匹配器：目前开发成熟的产品有：300W、500W、1KW、1250W、1.5KW、2KW、3KW、5KW、6KW、8KW、10KW等多种规格的射频电源、不同功率的400KHz高频电源及不同功率的稳流源与自动匹配器。
        匀胶机：适应于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆。该产品具有转速稳定和启动迅速等优点，并能保证半导体材料中涂胶厚度的一致性和均匀性。通常配真空泵一起使用。目前的型号有KW-4A型和KW-5型。
        去胶机（RIE-PR）：主要用于光刻后残胶的去除、胶膜的刻蚀，还可用于材料表面的表面能提高与活化。

以上产品已经被近80所高等院校和科研单位采用，并出口到中国香港、新加坡和马来西亚等地，受到用户的一致好评。此外，还提供微纳米结构加工、产品开发、研究等方面的技术开发和咨询业务。

        拟招聘的自动化控制工程师，主要负责半导体设备的自动化控制系统（包括硬件和软件）的设计与开发工作，与上述设备相关。

 

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