沈阳拓荆科技有限公司是一家由海外顶尖技术专家，与中科院所属企业为基础联合发起的国有投资为主体的中外合资高新技术企业，成立于2010年4月28日，承担国家科技部“十一五”重大专项（项目总投资3.54亿）、十三五”重大专项（项目总投资5.2亿）。公司致力于研究和生产世界领先的极大规模集成电路行业专用薄膜设备，矢志成为纳米级薄膜制造技术解决方案的领导者。

公司座落于沈阳国家级高新技术产业区——浑南新区，拥有最高级别的洁净厂房及国际一流的薄膜检测设备。其中十级洁净间（180m²）、百级洁净间（620m²）、千级洁净间（1880m²）洁净间用于生产（年产100台的生产能力）总面积2680m² 。

公司现已形成2-12英寸PECVD设备、12英寸ALD设备、OLED薄膜设备、3D NAND薄膜设备产品系列，广泛应用于集成电路、先进封装TSV、光波导、LED、OLED显示等高端技术领域。均是国际先进的半导体薄膜制造设备，填补国内空白。

公司遵循国际化企业运营模式，引进了一批在全球的薄膜设备设计及工艺研发领域处于顶级的海外半导体技术专家，也聚集了多年从事该领域研发的本土专业人才。他们共同组成了一支素质高、专业经验丰富的管理和技术团队。公司现有员工二百余人，全职海外专家8人，博士7人，硕士以上占员工总数的40%，学士以上占到总人数的84%。2017年招聘信息请查看附件。

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